光刻机市场再添新龙头，ASML仅屈居第二，佳能位居榜首(asml最先进光刻机能达到什么程度)

众所周知，ASML是当今高精尖光刻机市场的绝对龙头老大，特别是其实现先进工艺的EUV超精细图案光刻设备更是成为焦点。但在以图像传感器、功率半导体、RF和MEMS为代表的所谓More-than-Moore设备的光刻设备，等市场方面，ASML仅屈居第二！

半导体市场趋势研究公司Yole Développement最近给出了一份光刻机行业调查报告，指出了在这一领域日本公司继续保持优势地位。

报告指出，2020年该行业的光刻设备市场规模为10亿美元，其中30%为CMOS图像传感器。87%的More-than-Moore光刻设备为投影式，传统的掩模匹配设备为12%。

佳能在该领域的光刻设备份额位居榜首，占比34%，而位居第二的ASML则以21%的份额扩大实力。此外，先进封装光刻设备市场是由SMEE推动的，它主要依靠中国市场，而德国的SüSS MicroTec公司已经在掩模对准器方面建立了地位。

佳能在曝光设备市场上占有最大的份额，为34%，但ASML正在取得进展，份额为21%。先进的包装光刻工具市场是由SMEE推动的，它主要依靠中国市场，而德国的SüSS MicroTec公司已经在掩模对准器方面建立了地位。

半导体光刻设备供应商的地理分布

2020年，功率器件的光刻设备市场将价值1.98亿美元，佳能以39%的份额领先，ASML第二，占28%，尼康第三，占11%，USHIO第四，占9%。

2020年用于功率器件的光刻设备的市场份额

面向More-than-Moore的光刻设备

另外，从面向More-than-Moore的光刻设备的分辨率和价格来看，依次为，掩膜对准器（接近和接触）、全晶圆投影和步进器，价格有逐渐升高的趋势。

面向More-than-Moore的光刻设备分辨率与价格的相关性

什么是 More-than-Moore ？

摩尔定律(Moore's Law)是半导体行业的核心。按照摩尔定律，晶体管的尺寸随着节点（Node）而缩小。此外，把各种小型、高速的晶体管集成到芯片上这一焦点问题以及人们无限的“欲望”推动着摩尔定律发展到今天。

与旨在通过使此类晶体管小型化来提高性能的“More Moore”不同，“More than Moore”中的元件使数字电子（Digital Electronics）直面模拟世界、代表着科技领域新功能的多样化，随着5G、IoT、无人驾驶、神经传感（Neural Sensor）等各种各样的新应用（Application）的登场，出现了前所未有的变化。